En un movimiento que podría redefinir el panorama tecnológico global, China ha dado un paso crucial hacia la producción independiente de chips de inteligencia artificial avanzados. Según un reporte de Reuters, el gigante asiático ya cuenta con un prototipo funcional de una máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), un equipo esencial para fabricar semiconductores de última generación. Este desarrollo no solo desafía las predicciones occidentales sobre cuándo China lograría su autonomía en este campo, sino que también ha reavivado las acusaciones de espionaje industrial contra el gobierno de Xi Jinping. La máquina, que se terminó de ensamblar a principios de este año, se encuentra ahora en fase de pruebas, con el objetivo de comenzar a producir chips en los próximos años. Si los informes son precisos, China habría evadido las restricciones impuestas por Estados Unidos para acceder a esta tecnología crítica, que tiene aplicaciones tanto en servidores de IA y electrónica de consumo como en desarrollos militares.
El proyecto se ha llevado a cabo bajo un estricto secreto en un laboratorio de Shenzhen, en estrecha colaboración con Huawei. Ingenieros y científicos chinos que anteriormente trabajaron en ASML, la empresa neerlandesa líder en equipos de litografía EUV, están al frente de esta iniciativa. Dado que China no puede adquirir directamente la tecnología de ASML debido a las sanciones estadounidenses, ha recurrido a métodos alternativos: reclutando talento de la empresa, rescatando partes de máquinas más antiguas y obteniendo componentes cruciales a través del mercado de segunda mano. Sin embargo, aún enfrenta desafíos, como la falta de elementos de precisión óptica necesarios para el proceso EUV, lo que ha obligado a usar soluciones alternativas que podrían afectar la calidad final de los chips, requiriendo refinamientos adicionales.
Esta iniciativa ha sido comparada con el Proyecto Manhattan de Estados Unidos durante la Segunda Guerra Mundial, subrayando su importancia estratégica para China. Los exempleados de ASML involucrados supuestamente trabajan bajo medidas de seguridad extremas, incluyendo el uso de identificaciones falsas, mientras que Huawei implementa tácticas como aislar a los grupos de trabajo, prohibir teléfonos y alojar a los trabajadores en las instalaciones para evitar filtraciones. Aunque el prototipo aún no ha producido chips avanzados, se espera que China logre este hito entre 2028 y 2030. El equipo, notablemente más grande que los desarrollados por ASML, ocupa un piso completo de una fábrica. La litografía EUV es vital porque permite grabar circuitos minúsculos en obleas de silicio, una tecnología que Occidente había mantenido fuera del alcance de China hasta ahora.
Este avance no solo refleja la determinación de China por alcanzar la autosuficiencia tecnológica, sino que también plantea preguntas sobre el futuro de la competencia global en semiconductores. A medida que el gigante asiático continúa innovando a pesar de las restricciones, el mundo observa con atención cómo este ‘Proyecto Manhattan’ podría alterar el equilibrio de poder en la industria tecnológica. La carrera por los chips avanzados está en marcha, y sus implicaciones se extenderán mucho más allá de los laboratorios, impactando economías y seguridad nacional en todo el planeta.
